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Skip Navigation LinksTUW 2010
Technologien und Werkstoffe der Mikrosystem- und Nanotechnik
 
 2. GMM Workshop
 
10./11. Mai 2010
Darmstadtium, Darmstadt
 
 

Terminplan

Einsendung von Abstracts: 15.01.2010
Benachrichtigung der Autoren: 10.02.2010
Deadline für Papers: 19.03.2010

 

"Die obere Abbildung zeigt ein Mikrorelais aus galvanisch abgeschiedenem Nickel und photolithographisch strukturierten elektrothermischen Aktoren. Die Nickelstruktur wird dabei in eine verlorene Form aus dem Negativresist SU-8 2025 abgeschieden. Bei den elektrothermischen Aktoren wird der gleiche Resist als Konstruktionswerkstoff eingesetzt." (Technische Universität Darmstadt, Institut EMK)

 
 
 
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